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PF850
激光自动对焦系统
兼容步进电机Z轴或者压电窜轴
1 ms 响应时间，控制器刷新率
简单二向色镜调整
简单转接到无限远光路中
850 nm 激光减少对荧光成像的影响
控制软件整合调试以及控制功能
控制软件可以保存多组物镜参数
产物描述
产物参数
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产物描述
PF850 激光自动对焦系统对于生物以及工业成像应用带来了革命性的便利，基于先进的光学设计以及电路设计，在无穷远光路系统中，实现了实时对焦成像。模块内置电动装置用于调节激光对焦补偿值，可以观测样品中不同深度的成像情况。
PF850 可以简单整合到正置或者倒置显微无限远光路中，让现有光路获得自动对焦的功能。
PF850 中包含了红外激光二极管，精密光学元件，激光探测器，以及微处理电路。激光信号通过光学元件耦合到物镜中，通过样品反射之后被探测器获得，并通过电路将信号输出到步进电机或者压电平台，来完成自动对焦。
在不同的界面，对焦模块可以完成自动对焦，如玻片，玻璃培养皿，流体腔等。
特性
高速 1 ms典型响应时间，提供软件设置，角度可调二向色镜，850 nm工作波长，兼容步进电机Z轴，或输出 0 — 10 V 用于压电 Z 轴。
根据不同的物镜以及样品保存配置文件，补偿麻花星空MV高清免费Z轴漂移，兼容正置以及倒置麻花星空MV高清免费。
优点
简单快速构建系统，并开始工作，易于固定在无限远光路中，无色散，工作波段在可见光外，避开大部分荧光激光发波段。
可在现有显微设备上升级，可以通过 PC 或者按钮修改参数，业内领先的针对玻片以孔板的对焦能力，长周期持续对焦。
特点
兼容步进电机Z轴或者压电Z轴，1 ms 响应时间，控制器刷新率，简单二向色镜调整，简单转接到无限远光路中。
850 nm 激光减少对荧光成像的影响，控制软件整合调试以及控制功能，控制软件可以保存多组物镜参数。
产物参数
| 参数/型号 | 尺寸 mm | 重量 kg | 工作波长 nm | 激光功率 | 刷新率 | 二向色镜 |
| PF850 | 192 × 119 × 50.50 |
1.5 |
850 |
＜ 0.77 mW Class1 |
1 ms |
50 %截止波长800 nm 直径32 mm |
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使用手册
软件以及二次开发
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